具有驻留时间约束和晶圆清洁操作的半导体制造系统调度与优化研究
为了确保晶圆质量满足市场需求,晶圆厂商必须对具有晶圆清洁操作的槽式晶圆制造系统中的驻留时间进行严格限制,这种处理方式在半导体制造领域较为普遍。然而,在槽式晶圆制造系统加工多品种晶圆时,晶圆驻留时间的限制与晶圆清洁操作的安排使得调度问题更复杂。为了解决...
工业工程
2025年02期
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